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An Entity of Type : owl:Thing, within Data Space : 134.155.108.49:8890 associated with source dataset(s)

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  • KrF 엑시머 레이저
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  • KrF 엑시머 레이저도 많이 사용되는 엑시머 레이저로서 248nm의 복사선을 내놓는다. 오늘날 반도체 칩가공에 있어 엑시머 레이저는 가장 기본이 되고 핵심인 도구이다. 노광장비의 개발방향은 사용광원의 파장이 긴 i라인 빛에서 파장이 짧은 불화크립톤(KrF) 엑시머레이저를 광원으로 하는 장비들이 도입되고 있으며 4GD램 이후에는 전자빔이나 X레이를 매체로 사용하는 노광장비의 개발도 예상된다. KrF 엑시머 레이저의 경우 광자 에너지는 약5eV정도이다. 이는 비열적 반응이므로 가공 주위에 열적 영향을 최소화 할 수 있어 품질면에서 매우 유리하다.
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  • KrF 엑시머 레이저도 많이 사용되는 엑시머 레이저로서 248nm의 복사선을 내놓는다. 오늘날 반도체 칩가공에 있어 엑시머 레이저는 가장 기본이 되고 핵심인 도구이다. 노광장비의 개발방향은 사용광원의 파장이 긴 i라인 빛에서 파장이 짧은 불화크립톤(KrF) 엑시머레이저를 광원으로 하는 장비들이 도입되고 있으며 4GD램 이후에는 전자빔이나 X레이를 매체로 사용하는 노광장비의 개발도 예상된다. KrF 엑시머 레이저의 경우 광자 에너지는 약5eV정도이다. 이는 비열적 반응이므로 가공 주위에 열적 영향을 최소화 할 수 있어 품질면에서 매우 유리하다.
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