촛점 심도(DOF,Depth of Focus~λ/NA²)는 파장 λ을 작게 하면 DOF값도 작아지기에 문제가 된다. 이렇게 DOF가 감소하게 되면 다층 배선 구조를 가지는 반도체 디바이스 제조시 표면에서 단차가 발생하여 동일한 패턴을 형성하는데 어려움이 뒤 따른다. 반도체 공정 부분에서 수율을 향상시키는 방법은 광학계의 개구수(NA)를 크게해서 해상도와 초점 심도(DOF)를 좋게하며 클린룸 상태를 유지한다.
촛점 심도(DOF,Depth of Focus~λ/NA²)는 파장 λ을 작게 하면 DOF값도 작아지기에 문제가 된다. 이렇게 DOF가 감소하게 되면 다층 배선 구조를 가지는 반도체 디바이스 제조시 표면에서 단차가 발생하여 동일한 패턴을 형성하는데 어려움이 뒤 따른다. 반도체 공정 부분에서 수율을 향상시키는 방법은 광학계의 개구수(NA)를 크게해서 해상도와 초점 심도(DOF)를 좋게하며 클린룸 상태를 유지한다.