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An Entity of Type : owl:Thing, within Data Space : 134.155.108.49:8890 associated with source dataset(s)

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  • 포토마스크
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  • 포토마스크(photo mask)란 마치 필름을 이용해 사진을 인화지에 현상하는 것과 같이, 반도체ㆍ디스플레이 공정에서 회로가 그려진 포토마스크(필름)에 빛을 가해 기판(인화지) 위에 미세한 회로 패턴을 형성하는 기능을 하는 것이다. 따라서 포토마스크의 패턴은 웨이퍼 패턴의 원판이라 할 수 있다. 포토마스크는 포토리소그라피 기술을 사용하는 공정에서 만들어내고자 하는 어떤 형태를 담은 원판으로 사진의 필름과 같은 역할을 하며, 초정밀 전자 부품을 만들기 위한 핵심이다. 먼저 재료의 전 료면에 포토레지스트의 피막을 형성하고, 따로 작성한 원판(포토마스크)을 통하여 포토레지스트를 노광하며, 감광 부분을 현상액에 용해되지 않게 한다. 세밀하고 긴 선이 수천개 모인 포토마스크로 배선 패턴의 결선과 단선은 치명적인 결함이 된다. 분류:반도체 재료 분류:리소그라피
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abstract
  • 포토마스크(photo mask)란 마치 필름을 이용해 사진을 인화지에 현상하는 것과 같이, 반도체ㆍ디스플레이 공정에서 회로가 그려진 포토마스크(필름)에 빛을 가해 기판(인화지) 위에 미세한 회로 패턴을 형성하는 기능을 하는 것이다. 따라서 포토마스크의 패턴은 웨이퍼 패턴의 원판이라 할 수 있다. 포토마스크는 포토리소그라피 기술을 사용하는 공정에서 만들어내고자 하는 어떤 형태를 담은 원판으로 사진의 필름과 같은 역할을 하며, 초정밀 전자 부품을 만들기 위한 핵심이다. 먼저 재료의 전 료면에 포토레지스트의 피막을 형성하고, 따로 작성한 원판(포토마스크)을 통하여 포토레지스트를 노광하며, 감광 부분을 현상액에 용해되지 않게 한다. 세밀하고 긴 선이 수천개 모인 포토마스크로 배선 패턴의 결선과 단선은 치명적인 결함이 된다. 분류:반도체 재료 분류:리소그라피
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